在過去的幾年中，臭氧在半導體工業(yè)的應用越來越受到重視，特別是在晶圓清洗過程。 在半導體行業(yè)，清潔度是一個絕對的要求。即使是很小的污染物痕跡也會導致晶圓表面區(qū)域結(jié)構(gòu)的
